Lexikon der Chemie: Dotierung
Dotierung, die definierte Zugabe von Fremdstoffen zu hochreinem Material, um dessen Eigenschaften in gezielter Weise zu beeinflussen. Ihre wichtigste Anwendung findet die D. bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Hierbei werden durch den Einbau von Fremdatomen in das Kristallgitter eines Eigenhalbleiters, z. B. von Bor- oder Phosphoratomen in einen Siliciumeinkristall, Substitionsstörstellen geschaffen, die die Leitungseigenschaften des Halbleiters wesentlich verändern. Die dafür erforderliche Konzentration des Fremdstoffes (Dotanten) ist äußerst gering (10-8 bis 10-5 %). D. dient auch zur Verstärkung der Luminiszenz von Leuchtstoffen.
Die D. kann entweder im Verlauf der Kristallzüchtung oder durch Einwirkung des gasförmigen Dotierungsmaterials, z. B. Bor- oder Phosphorwasserstoff, auf den reinen Halbleiterkristall bei hohen Temperaturen (Diffusionstechnik) erfolgen. Eine moderne Dotierungstechnik stellt die Ionenimplantation dar, wobei die Halbleiteroberfläche im Hochvakuum mit einem Strahl beschleunigter Ionen des Dotanten beschossen wird.
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